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滄州桌面型磁控濺射鍍膜儀
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產(chǎn)品描述

真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼 分子泵進口Pfeiffer分子泵 前級泵機械泵,北儀優(yōu)成 真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川 濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板) 濺射電源500W直流電源1臺,300W射頻電源1臺 流量計20sccm/50sccm進口WARWICK 控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套 冷水機LX-300 前級閥GDC-25b電磁擋板閥1套 旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套 限流閥DN63mm一套 充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套 放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套 基片臺Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃ 膜厚監(jiān)控儀進口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配) 真空管路波紋管、真空管道等1套 設備機架機電一體化 預留接口CF35法蘭一個 備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
磁控濺射(Magnetron Sputtering)是一種常用的物相沉積(PVD)技術,廣泛應用于薄膜材料的制備。它主要利用高能離子轟擊靶材,使靶材原子或分子脫離并沉積到基材表面,形成薄膜。
磁控濺射的基本原理如下:
1. **離子源**:在氣體氬氣中產(chǎn)生等離子體,通常在真空條件下進行。通過施加電壓,氬氣原子被電離,形成帶正電的氬離子。
2. **靶材轟擊**:生成的氬離子被加速,轟擊靶材表面,使靶材上的原子以濺射的方式逸出。
3. **磁場的作用**:在靶材附近施加磁場,產(chǎn)生閉合的磁力線,這樣可以有效地延長離子的停留時間,增強了等離子體的密度,提高了濺射效率。
4. **薄膜沉積**:被濺射出來的靶材原子在真空中遷移,終沉積在基材表面,形成所需的薄膜。
磁控濺射技術具有許多優(yōu)點,比如沉積速率高、膜層均勻性好、粘附性強等。此外,它還能夠沉積多種材料,包括金屬、合金、絕緣體和半導體等,因此在光電子、微電子、光學涂層等領域有著廣泛的應用。
濺射靶是一種廣泛應用于物理、材料科學和納米技術等領域的設備,主要用于薄膜的沉積。其特點包括:
1. **高精度沉積**:濺射靶能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的薄膜沉積,控制膜層的厚度和組成。
2. **多種材料適用性**:能夠使用金屬、合金、陶瓷等多種靶材進行沉積,適用范圍廣泛。
3. **較低的沉積溫度**:與其他沉積技術(如化學氣相沉積)相比,濺射沉積可以在較低的溫度下進行,有助于保護基材。
4. **良好的膜質(zhì)量**:沉積的薄膜通常具備良好的均勻性和致密性,適合用于電子、光學等高性能應用。
5. **靈活的氣氛控制**:可以在真空或氣氛環(huán)境中操作,靈活性強,適應不同的實驗需求。
6. **搬運便捷**:許多濺射靶設計緊湊,便于實驗室使用和搬運。
7. **擴展應用**:不僅可以用于厚膜沉積,還可以用于微納結構的制作,常用于半導體制造、光電器件等領域。
8. **易于實現(xiàn)多層膜結構**:通過控制濺射時間和靶材,可以輕松實現(xiàn)多層膜的構建,滿足復雜的功能需求。
濺射靶的這些特點使其成為現(xiàn)代材料科學和納米技術研究中的重要工具。
滄州桌面型磁控濺射鍍膜儀
桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種廣泛應用于材料科學、電子學、光學等領域的設備,其主要功能包括:
1. **薄膜沉積**:可在基材上沉積薄膜,形成不同厚度和成分的薄膜材料。
2. **材料多樣性**:支持多種靶材(如金屬、合金、氧化物等),能夠制作出不同種類的薄膜。
3. **優(yōu)良的膜質(zhì)量**:采用磁控濺射技術,可以有效提高薄膜的均勻性和致密性,提高膜的性能。
4. **可調(diào)節(jié)參數(shù)**:可以調(diào)節(jié)濺射功率、氣體流量、基片溫度等參數(shù),以滿足不同工藝要求。
5. **大面積鍍膜**:由于其設計,可以適用于大面積基片的鍍膜需求,在科研和工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的應用價值。
6. **過程控制**:配備監(jiān)測系統(tǒng),可以實時監(jiān)測膜厚度、氣氛等,有助于控制沉積過程。
7. **易于操作**:桌面型的設計使得設備更加緊湊,操作相對簡單,適合實驗室環(huán)境使用。
8. **真空技術**:工作過程中保持真空環(huán)境,減少污染,提高沉積質(zhì)量。
這種設備在半導體器件制造、光學涂層、傳感器、太陽能電池等多個領域具有重要應用價值。
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PVD(物相沉積)鍍膜機是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備,廣泛應用于電子、光學、工具制造和裝飾等領域。其主要特點包括:
1. **薄膜質(zhì)量高**:PVD工藝能夠在較低的溫度下沉積量、高致密度的薄膜,具有良好的附著力和均勻性。
2. **材料多樣性**:PVD技術可以鍍金屬、合金和陶瓷材料,能夠滿足不同應用需求。
3. **環(huán)保性**:PVD過程通常不涉及有害化學物質(zhì),相比于化學氣相沉積(CVD)等工藝更為環(huán)保。
4. **沉積速率可調(diào)**:通過調(diào)整工藝參數(shù),可以控制薄膜的沉積速率,從而滿足不同應用的需求。
5. **設備占用空間小**:PVD鍍膜機相對較小,適合在空間有限的環(huán)境中使用。
6. **自動化程度高**:現(xiàn)代PVD設備通常具有較高的自動化水平,可以實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蝕性**:沉積的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蝕性,適用于工業(yè)應用。
8. **適應性強**:可以處理不同形狀和尺寸的基材,從小型零件到大型工件均可適應。
這些特點使得PVD鍍膜機在多個領域得以廣泛應用,并逐漸成為現(xiàn)代材料表面處理的重要設備。
滄州桌面型磁控濺射鍍膜儀
離子濺射儀是一種廣泛應用于材料科學、半導體制造和表面分析等領域的設備,其主要特點包括:
1. **高精度**:離子濺射儀能夠在原子或分子層級上進行物質(zhì)的去除和沉積,具有的控制精度,適用于微米和納米級別的加工。
2. **多功能性**:該儀器可用于薄膜的沉積、表面清洗、材料分析等多種用途,適應性強。
3. **層次控制**:可以實現(xiàn)對材料沉積厚度的控制,可以逐層沉積不同材料,適合制備多層膜結構。
4. **較強的適應性**:離子源與靶材的組合可以根據(jù)需要進行調(diào)整,使得該儀器可以處理多種不同類型的材料。
5. **真空環(huán)境**:離子濺射在真空環(huán)境中進行,有助于減少氣體分子對沉積過程的干擾,提高沉積質(zhì)量。
6. **可調(diào)節(jié)能量**:離子源可以調(diào)節(jié)離子的能量,從而控制濺射過程中的粒子能量,有利于改善沉積膜的性質(zhì)。
7. **低溫沉積**:相較于傳統(tǒng)的熱沉積方法,離子濺射在較低溫度下即可進行,能夠減少熱敏感材料的損傷。
8. **表面改性**:通過選擇合適的離子種類和能量,可以對材料表面進行改性,如提高表面硬度或改變表面化學性質(zhì)。
總的來說,離子濺射儀因其高精度、多功能和良好的適應性,在現(xiàn)代材料科學和工程中發(fā)揮著重要作用。
磁控濺射鍍膜機是一種常見的薄膜沉積設備,廣泛應用于多個領域。其適用范圍主要包括:
1. **光電器件**:用于制造太陽能電池、OLED顯示屏、LED等光電元件的導電膜和熒光膜。
2. **半導體器件**:在集成電路生產(chǎn)中,磁控濺射可以用于沉積金屬、氧化物和氮化物薄膜,這些薄膜用于互連、絕緣和摻雜等功能。
3. **光學涂層**:生產(chǎn)抗反射 coating、反射鏡涂層和其他光學薄膜,廣泛應用于鏡頭、光學儀器和顯示器上。
4. **硬涂層**:用于制造硬度高、耐磨損的薄膜,在工具、模具等表面進行保護。
5. **磁性材料**:在數(shù)據(jù)存儲和磁性傳感器中,沉積磁性薄膜以實現(xiàn)特定的磁性能。
6. **裝飾涂層**:在家居用品、電子產(chǎn)品外殼等表面進行裝飾性鍍膜。
7. **生物醫(yī)學**:在生物傳感器和器械表面形成或生物相容性薄膜。
由于其良好的膜質(zhì)量和均勻性,磁控濺射鍍膜機在材料科學、納米科技等研究領域也有廣泛應用。
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