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慶陽(yáng)樣品臺(tái)
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產(chǎn)品描述

真空腔室Ф246×228mm,304優(yōu)質(zhì)不銹鋼 分子泵進(jìn)口Pfeiffer分子泵 前級(jí)泵機(jī)械泵,北儀優(yōu)成 真空規(guī)全量程真空規(guī),上海玉川 濺射靶Ф2英寸永磁靶2支(含靶擋板) 濺射電源500W直流電源1臺(tái),300W射頻電源1臺(tái) 流量計(jì)20sccm/50sccm進(jìn)口WARWICK 控制系統(tǒng)PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套 冷水機(jī)LX-300 前級(jí)閥GDC-25b電磁擋板閥1套 旁路閥GDC-25b電磁擋板閥1套 限流閥DN63mm一套 充氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套 放氣閥Φ6mm,電磁截止閥1套 基片臺(tái)Ф100mm,高度:60~120mm可調(diào),旋轉(zhuǎn):0-20r/min可調(diào),可加熱至300℃ 膜厚監(jiān)控儀進(jìn)口Inficon SQM-160單水冷探頭,精度0.1?(選配) 真空管路波紋管、真空管道等1套 設(shè)備機(jī)架機(jī)電一體化 預(yù)留接口CF35法蘭一個(gè) 備件CF35銅墊圈及氟密封圈全套等
PVD(物相沉積)鍍膜機(jī)是一種用于在材料表面形成薄膜涂層的設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、硬質(zhì)涂層、裝飾等領(lǐng)域。PVD技術(shù)通過(guò)物理方式將材料蒸發(fā)并沉積到基材上,從而形成所需的薄膜。
### PVD鍍膜機(jī)的主要組成部分:
1. **真空系統(tǒng)**:用于將腔體抽真空環(huán)境,以減少氣體分子對(duì)沉積薄膜的影響。
2. **蒸發(fā)源**:對(duì)待鍍材料進(jìn)行加熱蒸發(fā),常見(jiàn)的有電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和濺射等方式。
3. **基材臺(tái)**:用于放置待鍍材料,通常具有加熱功能以促進(jìn)薄膜的生長(zhǎng)。
4. **氣體引入系統(tǒng)**:用于控制沉積過(guò)程中氣氛的成分,如氬氣、氮?dú)獾取?br/>5. **監(jiān)測(cè)系統(tǒng)**:用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)沉積過(guò)程中的薄膜厚度和質(zhì)量。
### PVD工藝的優(yōu)點(diǎn):
- **高純度**:由于在高真空環(huán)境下操作,薄膜的化學(xué)成分純度較高。
- **良好的附著力**:沉積膜與基材之間的附著力較好,適用于要求較高的應(yīng)用。
- **多樣化的材料選擇**:可以沉積金屬、氧化物、氮化物等多種材料,滿(mǎn)足不同需求。
### 應(yīng)用范圍:
- **半導(dǎo)體器件**:用于集成電路及微電子器件的制造。
- **光學(xué) coating**:如反射鏡、抗反射膜等。
- **硬質(zhì)涂層**:用于工具和機(jī)械部件的保護(hù)。
- **裝飾性涂層**:用于電子消費(fèi)品、珠寶等的表面處理。
### 發(fā)展方向:
隨著科技的進(jìn)步,PVD鍍膜技術(shù)也在不斷發(fā)展,朝著更高的沉積速率、的膜質(zhì)量和更廣泛的材料適應(yīng)性方向發(fā)展。
PVD(物相沉積)鍍膜機(jī)是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、工具制造和裝飾等領(lǐng)域。其主要特點(diǎn)包括:
1. **薄膜質(zhì)量高**:PVD工藝能夠在較低的溫度下沉積量、高致密度的薄膜,具有良好的附著力和均勻性。
2. **材料多樣性**:PVD技術(shù)可以鍍金屬、合金和陶瓷材料,能夠滿(mǎn)足不同應(yīng)用需求。
3. **環(huán)保性**:PVD過(guò)程通常不涉及有害化學(xué)物質(zhì),相比于化學(xué)氣相沉積(CVD)等工藝更為環(huán)保。
4. **沉積速率可調(diào)**:通過(guò)調(diào)整工藝參數(shù),可以控制薄膜的沉積速率,從而滿(mǎn)足不同應(yīng)用的需求。
5. **設(shè)備占用空間小**:PVD鍍膜機(jī)相對(duì)較小,適合在空間有限的環(huán)境中使用。
6. **自動(dòng)化程度高**:現(xiàn)代PVD設(shè)備通常具有較高的自動(dòng)化水平,可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率。
7. **良好的耐磨性和耐腐蝕性**:沉積的薄膜通常具有的耐磨性和耐腐蝕性,適用于工業(yè)應(yīng)用。
8. **適應(yīng)性強(qiáng)**:可以處理不同形狀和尺寸的基材,從小型零件到大型工件均可適應(yīng)。
這些特點(diǎn)使得PVD鍍膜機(jī)在多個(gè)領(lǐng)域得以廣泛應(yīng)用,并逐漸成為現(xiàn)代材料表面處理的重要設(shè)備。
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離子濺射儀是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造和表面分析等領(lǐng)域的設(shè)備,其主要特點(diǎn)包括:
1. **高精度**:離子濺射儀能夠在原子或分子層級(jí)上進(jìn)行物質(zhì)的去除和沉積,具有的控制精度,適用于微米和納米級(jí)別的加工。
2. **多功能性**:該儀器可用于薄膜的沉積、表面清洗、材料分析等多種用途,適應(yīng)性強(qiáng)。
3. **層次控制**:可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料沉積厚度的控制,可以逐層沉積不同材料,適合制備多層膜結(jié)構(gòu)。
4. **較強(qiáng)的適應(yīng)性**:離子源與靶材的組合可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整,使得該儀器可以處理多種不同類(lèi)型的材料。
5. **真空環(huán)境**:離子濺射在真空環(huán)境中進(jìn)行,有助于減少氣體分子對(duì)沉積過(guò)程的干擾,提高沉積質(zhì)量。
6. **可調(diào)節(jié)能量**:離子源可以調(diào)節(jié)離子的能量,從而控制濺射過(guò)程中的粒子能量,有利于改善沉積膜的性質(zhì)。
7. **低溫沉積**:相較于傳統(tǒng)的熱沉積方法,離子濺射在較低溫度下即可進(jìn)行,能夠減少熱敏感材料的損傷。
8. **表面改性**:通過(guò)選擇合適的離子種類(lèi)和能量,可以對(duì)材料表面進(jìn)行改性,如提高表面硬度或改變表面化學(xué)性質(zhì)。
總的來(lái)說(shuō),離子濺射儀因其高精度、多功能和良好的適應(yīng)性,在現(xiàn)代材料科學(xué)和工程中發(fā)揮著重要作用。
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桌面型磁控濺射鍍膜儀是一種用于薄膜沉積的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、光學(xué)及材料科學(xué)等領(lǐng)域。以下是桌面型磁控濺射鍍膜儀的一些主要特點(diǎn):
1. **緊湊設(shè)計(jì)**:桌面型設(shè)計(jì)占用空間小,適合實(shí)驗(yàn)室環(huán)境,有利于提高實(shí)驗(yàn)室的使用效率。
2. **高均勻性**:通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)濺射過(guò)程,提高薄膜的均勻性和致密性,能夠在較大面積上達(dá)到一致的膜厚。
3. **可控性**:支持控制沉積參數(shù),如氣壓、濺射功率和沉積時(shí)間,便于實(shí)現(xiàn)不同材料和膜厚的調(diào)節(jié)。
4. **多種靶材選擇**:支持多種材料的靶材,能夠?qū)崿F(xiàn)金屬、氧化物、氮化物等不同類(lèi)型薄膜的沉積。
5. **低溫沉積**:相較于其他鍍膜技術(shù),磁控濺射通??稍谳^低溫度下進(jìn)行,有助于保護(hù)基材和改善膜的性能。
6. **清潔環(huán)境**:通常配備有真空系統(tǒng),能夠在相對(duì)潔凈的環(huán)境下進(jìn)行沉積,減少污染。
7. **自動(dòng)化程度高**:一些型號(hào)支持自動(dòng)化控制和監(jiān)測(cè),便于實(shí)驗(yàn)操作和數(shù)據(jù)記錄,提高了實(shí)驗(yàn)效率和重復(fù)性。
8. **易于維護(hù)**:桌面型設(shè)備結(jié)構(gòu)相對(duì)簡(jiǎn)單,便于日常維護(hù)和保養(yǎng),降低了運(yùn)行成本。
這些特點(diǎn)使得桌面型磁控濺射鍍膜儀在科研和工業(yè)應(yīng)用中越來(lái)越受到歡迎。
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離子濺射儀是一種用于材料表面分析和處理的設(shè)備,主要功能包括:
1. **材料沉積**:可以用于在基材表面上沉積薄膜,常見(jiàn)于半導(dǎo)體、光電子器件和表面涂層的制造。
2. **表面分析**:通過(guò)濺射過(guò)程,可以分析材料的成分和結(jié)構(gòu),常用于質(zhì)譜分析和表面分析技術(shù),如時(shí)間飛行質(zhì)譜(TOF-MS)。
3. **清潔和去除涂層**:可以去除材料表面的污染物或舊涂層,為后續(xù)處理做好準(zhǔn)備。
4. **再結(jié)晶和表面改性**:可以通過(guò)離子轟擊改變材料的表面狀態(tài),如增加薄膜的粘附力、改善光學(xué)性能等。
5. **刻蝕**:在微電子工藝中,用于刻蝕特定區(qū)域,形成所需的圖案和結(jié)構(gòu)。
6. **離子 implantation**:將離子注入材料中,以改變其電學(xué)、光學(xué)或機(jī)械性質(zhì)。
離子濺射儀在材料科學(xué)、微電子、納米技術(shù)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
PVD(物相沉積)鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,其適用范圍包括但不限于:
1. **電子行業(yè)**:用于制造半導(dǎo)體器件、電容器、導(dǎo)電膜、光學(xué)器件等。
2. **太陽(yáng)能行業(yè)**:用于光伏電池的抗反射膜和導(dǎo)電膜的沉積。
3. **光學(xué)元件**:用于制造鏡頭、濾光片、光學(xué)涂層等,提高光學(xué)性能和耐磨性。
4. **工具和模具**:用于在工具和模具表面鍍膜,以提高耐磨性、耐腐蝕性和降低摩擦。
5. **裝飾和飾品**:用于金屬和非金屬表面的裝飾性鍍膜,如汽車(chē)配件、家居用品等。
6. **器械**:用于器械表面鍍膜,以提高生物相容性和性能。
7. **和**:在材料上鍍膜,以提高其性能和耐久性。
PVD技術(shù)因其可以沉積多種材料且能夠控制膜的厚度、組成和質(zhì)量,受到廣泛青睞。
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