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天門熱蒸鍍
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產(chǎn)品描述

真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304優(yōu)質(zhì)不銹鋼 觀察窗Φ100mm,含磁力擋板 屏蔽板不銹鋼,便于拆卸清潔、更換 水冷蒸發(fā)電極8根組成4組 金屬蒸發(fā)電源功率3kW 復(fù)合分子泵JTFB-650Z脂潤滑分子泵,抽速650L/s 直聯(lián)高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s 氣動(dòng)高真空插板閥DN150 前級(jí)閥/旁路閥DN40 放氣閥φ10 電磁充氣閥 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)兩低一高,含規(guī)管 波紋管、真空管道材質(zhì)SUS304不銹鋼
束源爐(也稱為束流源、束流爐)是一種用于核反應(yīng)的設(shè)備,通常用于研究或工業(yè)應(yīng)用中,特別是在粒子加速器和核聚變研究中。這種設(shè)備利用高能粒子束(如電子、質(zhì)子或離子)來激發(fā)核反應(yīng)或產(chǎn)生核。
束源爐的主要功能包括:
1. **核反應(yīng)研究**:通過產(chǎn)生高能粒子束,研究人員可以探測和分析核反應(yīng)的性質(zhì)。
2. **材料輻照**:束源爐可以用于材料科學(xué)研究,通過輻照材料以研究其性質(zhì)變化。
3. **醫(yī)學(xué)應(yīng)用**:在放射中,束源爐也可以用于生成特定的放射性同位素,用于等。
整體來看,束源爐是現(xiàn)代核技術(shù)和粒子物理研究中一個(gè)重要的組成部分。
鈣鈦礦鍍膜機(jī)是一種用于制備鈣鈦礦材料薄膜的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于光伏、光電和其他相關(guān)領(lǐng)域。以下是鈣鈦礦鍍膜機(jī)的一些主要特點(diǎn):
1. **能**:鈣鈦礦鍍膜機(jī)能夠快速制備量的鈣鈦礦薄膜,提升生產(chǎn)效率。
2. **均勻性**:設(shè)備設(shè)計(jì)確保薄膜厚度均勻,能夠滿足高性能器件的要求。
3. **多種制備方法**:鈣鈦礦鍍膜機(jī)通常支持多種薄膜制備技術(shù),如溶液法、蒸發(fā)法和噴涂法等,提供靈活的工藝選擇。
4. **溫控系統(tǒng)**:設(shè)備配有的溫控系統(tǒng),以確保在鍍膜過程中溫度穩(wěn)定,避免材料性質(zhì)受到影響。
5. **氣氛控制**:部分鈣鈦礦鍍膜機(jī)可以在惰性氣體或特定氣氛下工作,減少氧化和其他不利反應(yīng)。
6. **自動(dòng)化程度高**:許多鈣鈦礦鍍膜機(jī)具有高度自動(dòng)化功能,減少人工干預(yù),提高操作安全性和性。
7. **易于集成**:設(shè)備通常設(shè)計(jì)便于與其他測試和后處理設(shè)備集成,形成完整的生產(chǎn)線。
8. **可擴(kuò)展性**:根據(jù)生產(chǎn)需求,可以靈活擴(kuò)展規(guī)模,以滿足不同量產(chǎn)要求。
這些特點(diǎn)使鈣鈦礦鍍膜機(jī)在現(xiàn)代材料研究和工業(yè)生產(chǎn)中成為重要的設(shè)備之一。
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束源爐(也稱束流源或粒子束源)是一種產(chǎn)生高能粒子束的裝置,廣泛應(yīng)用于粒子物理、材料科學(xué)、醫(yī)學(xué)和工業(yè)等領(lǐng)域。其主要功能包括:
1. **粒子束生成**:束源爐能夠生成高能電子、質(zhì)子或離子束,供給實(shí)驗(yàn)或應(yīng)用需要。
2. **加速粒子**:通過電場和磁場加速粒子到所需的能量,從而實(shí)現(xiàn)對粒子的控制和操縱。
3. **材料研究**:在材料科學(xué)中,束源爐可用于對材料進(jìn)行輻照實(shí)驗(yàn),研究其在高能粒子輻照下的結(jié)構(gòu)和性能變化。
4. **醫(yī)學(xué)應(yīng)用**:在領(lǐng)域,束源爐可以用于(如質(zhì)子療法)、放射等。
5. **顯微成像**:利用電子束進(jìn)行掃描隧道顯微鏡(STM)或透射電子顯微鏡(TEM)等高分辨率成像。
6. **同位素生產(chǎn)**:產(chǎn)生短壽命或特定同位素,以用于醫(yī)學(xué)成像或。
7. **基礎(chǔ)科學(xué)研究**:為基本粒子物理實(shí)驗(yàn)提供高能碰撞,幫助研究粒子特性和宇宙基本法則。
總之,束源爐是一個(gè)重要的研究和應(yīng)用工具,為科學(xué)研究和技術(shù)發(fā)展提供了基礎(chǔ)支持。
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蒸發(fā)舟是用于蒸發(fā)物質(zhì)的一種設(shè)備,廣泛應(yīng)用于薄膜制備、材料合成和真空蒸發(fā)等領(lǐng)域。在蒸發(fā)過程中,蒸發(fā)舟在高溫下加熱,使得固體顆粒轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),從而形成薄膜或其他材料。
蒸發(fā)舟蒸發(fā)顆粒的特點(diǎn)主要包括以下幾個(gè)方面:
1. **粒度均勻性**:蒸發(fā)舟通常能夠提供比較均勻的加熱,從而使得蒸發(fā)出來的顆粒在粒度上保持一致,有助于提高材料的性能。
2. **高純度**:在真空條件下進(jìn)行蒸發(fā),能夠有效減少雜質(zhì)的引入,從而提高所得到的薄膜或顆粒的純度。
3. **可控性強(qiáng)**:通過調(diào)整溫度、壓力和蒸發(fā)時(shí)間,可以控制顆粒的蒸發(fā)速率和終的結(jié)構(gòu)特性。
4. **形成薄膜的能力**:蒸發(fā)過程中,顆粒在冷卻后會(huì)凝結(jié)形成薄膜,具有良好的附著性和均勻性。
5. **適用范圍廣**:可適用于多種材料,例如金屬、氧化物、氮化物等,應(yīng)用于電子器件、光學(xué)涂層等領(lǐng)域。
6. **重現(xiàn)性好**:蒸發(fā)過程中條件可重復(fù),且易于實(shí)現(xiàn)規(guī)?;a(chǎn),能夠滿足工業(yè)應(yīng)用的需求。
綜上所述,蒸發(fā)舟蒸發(fā)顆粒具備均勻性、高純度、可控性強(qiáng)及適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),使其在材料科學(xué)和工程領(lǐng)域中具有重要的應(yīng)用價(jià)值。
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熱蒸發(fā)手套箱一體機(jī)是一種用于材料制備和微納米技術(shù)研究的設(shè)備,主要功能包括:
1. **真空環(huán)境控制**:手套箱內(nèi)可維持低壓或真空狀態(tài),防止材料氧化或水分污染。
2. **熱蒸發(fā)源**:通過加熱材料,使其蒸發(fā)并在基片上沉積,以形成薄膜或納米結(jié)構(gòu)。
3. **氣氛控制**:可以根據(jù)需要調(diào)節(jié)手套箱內(nèi)的氣氛,比如惰性氣體(氮?dú)?、氬氣)環(huán)境,以保護(hù)敏感材料。
4. **樣品處理**:提供多種方式處理樣品,包括加熱、冷卻、刻蝕等。
5. **厚度控制**:配備的監(jiān)測系統(tǒng),可實(shí)時(shí)監(jiān)測并控制薄膜的厚度。
6. **操作安全性**:手套箱設(shè)計(jì)確保操作人員在處理有害或敏感材料時(shí)的安全。
7. **自動(dòng)化系統(tǒng)**:部分型號(hào)具備自動(dòng)化操作功能,提高實(shí)驗(yàn)效率并減少人為誤差。
8. **配備監(jiān)測設(shè)備**:可以與儀器(如電子顯微鏡、X射線衍射儀等)聯(lián)用,進(jìn)行材料性質(zhì)分析。
總之,熱蒸發(fā)手套箱一體機(jī)是多功能且的材料制備設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電材料、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域。
束源爐(也稱為束流爐或電子束爐)是利用高能電子束在真空環(huán)境中進(jìn)行加熱和熔化材料的設(shè)備。其適用范圍廣泛,主要包括以下幾個(gè)方面:
1. **金屬冶煉與鑄造**:束源爐可以用于高熔屬的熔化,如鎢、錸等稀有金屬。此外,它也適用于鑄造合金,特別是在需要控制合金成分時(shí)。
2. **材料加工**:束源爐常用于金屬的熱處理、表面處理和焊接等工藝。由于電子束的能量集中,可以實(shí)現(xiàn)高溫熔化和快速冷卻,提高材料的力學(xué)性能。
3. **電子元件制造**:在某些電子器件的制造過程中,束源爐可以用來處理半導(dǎo)體材料,以提高其性能和可靠性。
4. **真空鍍膜**:束源爐可以用來蒸發(fā)和沉積薄膜材料,廣泛應(yīng)用于光學(xué)涂層、電子器件及功能性薄膜的制備。
5. **核能和領(lǐng)域**:束源爐在核材料的處理和器材料的加工中也發(fā)揮著重要作用,特別是在需要特殊材料或高溫條件下的應(yīng)用。
總的來說,束源爐因其、高溫、的特點(diǎn),在多個(gè)制造領(lǐng)域都得到了廣泛應(yīng)用。
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